原创 |中国罕见对美主动重拳出击，这是在向世界释放4个明确信号！

美国政府入股英特尔：是芯片霸权的“政治算盘”？还是产业救市的“最后赌局”？

长江存储、合肥长鑫，全面导入本土EDA软件，中国正建立芯片产业第二极！

机械革命蛟龙16pro璃光白 开箱验机&烤机测试 CPU：AMD 锐龙R9-8940HX 内存：镁光 32GB DDR5 5200MHz 硬盘：长江存储 1TB SSD 显卡：NVIDIA GeForce RTX5060-8G #机械革命 #拯救者 #华硕 #rog #开箱测评

这几天AI芯片火得一塌糊涂，大大小小的芯片概念跟着暴涨，芯片性能的突破依赖于更底层的重器：光刻机的突破。 今天我们就聊一下光刻机。 一、先搞明白：光刻机到底是个啥？ 简单说，它就像 “工业级超级打印机”，但不打文字，专打芯片上纳米级的电路。 流程也不复杂：先把设计好的电路图案印在 “光罩” 上，再用特定波长的光，把图案投射到涂了光刻胶的晶圆上，曝光、显影之后，晶圆上就有电路图案了，后面再经过刻蚀、沉积这些步骤，芯片就差不多成型了。 1. 它是半导体设备里的 “老大” 2024 年全球半导体设备总销售额大概 1171 亿美元，光光刻机就占了 24%，比刻蚀机、薄膜沉积设备这些核心设备占比都高！而且芯片制程越先进（比如 7nm、3nm），光刻机越重要、成本占比也越高 —— 一台先进的极紫外（EUV）光刻机，售价超 1.9 亿欧元（约 15 亿人民币），差不多能买一架大型客机了！ 2. 技术迭代：从 “可见光” 卷到 “极紫外光” 光刻机的核心是 “分辨率”（能刻出的最小电路尺寸），想提高分辨率，关键就得 “缩短光源波长”。这么多年下来，行业已经历了五次大迭代： 早期用 436nm、365nm 的可见光（有点像紫外线），只能做 800-250nm 的芯片； 后来升级到 248nm（KrF 激光）、193nm（ArF 激光），能做 180-22nm 的芯片，其中 193nm 光刻机靠 “浸没式技术”（镜头和晶圆之间加水，提升光的折射率），到现在还是 28nm、14nm 制程的主力； 现在最牛的是 13.5nm 的极紫外（EUV）光刻机，能做 7nm 及以下的先进制程，是让 “摩尔定律”（芯片性能每 18 个月翻倍）继续走下去的关键，目前全球就荷兰 ASML 能造。 3. 关键指标：怎么判断光刻机好不好用？ 看一台光刻机行不行，主要看四个点： 分辨率：最小能刻多少纳米（比如 EUV 能做到 7nm 以下）； 套刻精度：多层电路叠加时的对齐误差（越小越好，先进机型能控制在 1.4nm 以内）； 产率：每小时能加工多少片晶圆（关系到工厂效率，先进机型每小时能处理 275 片以上）； 焦深：光线能清晰成像的范围（避免因为晶圆有点小起伏，导致图案模糊）。 二、市场格局：三巨头垄断，ASML 一家独大 全球光刻机市场典型的 “寡头游戏”，长期被荷兰 ASML、日本尼康（Nikon）、佳能（Canon）三家把持，其中 ASML 是绝对的龙头，尤其高端市场没对手。 1. ASML：高端市场 “独一份” 2024 年 ASML 全球市场份额达 61.2%，而且最关键的 EUV 光刻机领域，它是全球唯一供应商 —— 像台积电、三星、英特尔这些能造 7nm 及以下先进芯片的企业，都得买 ASML 的 EUV 设备。2024 年 ASML 一共卖了 418 台光刻机，其中 EUV 才 44 台，但单台收入占比就有 38%（每台均价 1.88 亿欧元），这含金量绝了！ ASML 的优势也不是一天两天来的：2000 年前后，它和台积电合作突破 “浸没式光刻” 技术，比尼康早三年推出 193nm 浸没式光刻机，一下子就抢占了市场；2013 年又率先量产 EUV 光刻机，直接把龙头地位焊死了。 2. 尼康、佳能：守着中低端市场过日子 尼康和佳能是老牌子光刻机厂商，早年在中低端市场还有点优势，但高端领域慢慢就跟不上了。2024 年尼康才卖了 32 台光刻机，佳能卖了 233 台，而且大多是 KrF（248nm）、i-line（365nm）这些中低端机型，主要用来造 28nm 以上的成熟制程芯片（比如汽车电子、消费电子里的普通芯片），EUV、先进 ArF（193nm）市场基本沾不上边。 3. 中国是最大需求方，却很依赖进口 中国大陆是全球最大的半导体设备市场，也是 ASML 的 “第一大客户”——2024 年 ASML 来自中国大陆的收入占比达 41%，比中国台湾、美国都高！2023 年中国大陆进口了 225 台光刻机，进口金额 87.54 亿美元，而且主要是中高端机型（ArF、EUV），国产化率才 2.5%，这依赖度确实有点高。 三、为啥必须搞国产替代？ 近几年美日荷三国对中国光刻机出口的管制越来越严，直接卡了中国先进芯片制造的 “脖子”，国产替代真的迫在眉睫！ 1. 海外管制一层比一层严 2022 年：美国不让 ASML 向中国出口 14nm 及以下制程的光刻机； 2023 年：美日荷达成协议，限制向中国出口 DUV（深紫外，比如 193nm）光刻机及零部件，ASML 之后就停止向中国出口部分先进 DUV 设备； 2025 年：美国又出了 “全球 AI 管控新规”，全面禁止先进 AI 芯片和光刻机对华出口，甚至连 EDA 软件（芯片设计工具）服务都限制。 这意味着啥？中国企业想买 EUV 光刻机基本没可能，连造 14nm 芯片的先进 DUV 设备都难拿到，如果不自己突破，中国先进芯片制造早晚会被卡得死死的。 2. 国产技术差距有多大？ 目前国内最领先的上海微电子，已经能批量生产 90nm 制程的 ArF 光刻机（用来造成熟制程芯片），正在研发 28nm 浸没式光刻机，但跟国际先进水平比，差距还是挺明显的： 制程差距：ASML 能造 7nm 及以下，国内还在攻坚 28nm； 核心部件差距：光刻机的光学镜头（蔡司独家供应）、光源（美国 Cymer）、双工件台（ASML 自研）这些核心部件，国内虽然有突破，但精度、稳定性还比不上海外； 整机集成差距：EUV 光刻机由 10 万个零部件组成，需要 5000 家供应商协作，国内还没形成完整的产业链。 四、国产替代进展：从 “0” 到 “1”，多个环节有突破 虽然差距大，但有国家政策（比如 “02 专项”“大基金”）和企业发力，国内光刻机产业链已经慢慢有突破了，从核心部件到整机都有进展。 1. 国家政策：真金白银支持 “02 专项”：2008 年启动的 “极大规模集成电路制造装备专项”，专门攻坚光刻机、刻蚀机这些 “卡脖子” 设备，上海微电子、长春光机所这些单位都是核心参与者； 大基金三期：2024 年成立，注册资本 3440 亿元，比一期（987 亿）和二期（2041 亿）加起来还多，重点投向光刻机、EDA、先进制程这些领域，给国产替代输血。 2. 核心部件：从 “全靠进口” 到 “部分国产” 光学镜头：长春光机所研发的 EUV 光刻物镜，已经能实现 32nm 线宽曝光；茂莱光学生产的镜头，已经用在国内 90nm 光刻机上； 光源：北京科益虹源突破了 193nm 准分子激光光源，哈工大 2025 年宣布攻克 13.5nm EUV 光源技术，已经进入成果转化阶段； 双工件台：华卓精科（清华大学团队孵化的企业）的双工件台，已经打破 ASML 垄断，用在上海微电子的光刻机上； 浸液系统：浙江大学和浙江启尔机电研发的浸液系统，已经完成项目结项，能满足 193nm 浸没式光刻机的需求。 3. 整机突破：上海微电子是 “主力军” 上海微电子是目前国内唯一能做光刻机整机的企业： 已经批量生产 90nm 制程的 ArF 光刻机（SSA600 系列），国内后道封装光刻机市占率近 80%（全球约 40%）； 28nm 浸没式光刻机正在研发，如果能成功量产，就能满足国内 28nm 成熟制程芯片的生产需求（28nm 是汽车电子、物联网芯片的主流制程，市场需求特别大）； 另外，中科院光电所研发的 “超分辨光刻装备”，结合双重曝光技术，已经能实现 22nm 线宽，未来有望用在 10nm 级芯片上。 五、国内产业链相关企业： 目前国内光刻机产业链已经有不少企业布局，覆盖光学部件、光源、精密机械等关键环节： 茂莱光学：国内工业级精密光学龙头，能造光刻机用的超精密镜头、反射镜，已经给国内光刻机厂商提供核心光学器件，还在海外建了生产基地（泰国）和研发中心（美国），国内替代和全球市场都想抓； 波长光电：深耕激光和红外光学领域，产品能覆盖紫外到远红外的全波段，包括光刻机用的聚焦镜、偏振镜等，2024 年新基地投产，产能进一步提升，客户覆盖半导体、显示面板等领域； 福晶科技：全球最大的 LBO、BBO 激光晶体生产商（激光晶体是光刻机光源的核心部件），还突破了声光器件、磁光器件等，能给光刻机光源系统提供关键组件，部分产品已经打破国外垄断； 旭光电子：原本做电力设备和电子陶瓷，近年跨界搞半导体，生产的高功率电子管能用于光刻机照明系统的激光器，还在氮化铝基板（用于芯片散热，也能用于光刻机部件）领域实现突破，国内率先批量生产超高热导基板。 六、总结：国产光刻机 “道阻且长，但未来可期” 目前全球光刻机市场还是 ASML 说了算，尤其是 EUV 领域的垄断，短期内很难打破，国内要实现完全替代，估计还需要 5-10 年。不过特别要提一句，深圳的【新凯来】正在低调快速成长，从趋势看，国产替代已经进入 “加速期”： 需求端：国内晶圆厂（比如中芯国际、长江存储）一直在扩产，28nm 及以上成熟制程芯片需求旺盛，给国产光刻机提供了 “练兵场”； 技术端：核心部件从 “单点突破” 向 “系统集成” 推进，上海微电子 28nm 光刻机如果能量产，会成为国产替代的 “里程碑”； 政策端：大基金三期、“02 专项” 这些持续加码，产业链协同效应慢慢显现。 对行业来说，光刻机不只是 “卡脖子” 设备，更是中国半导体产业实现自主可控的 “关键一战”。现在虽然差距明显，但随着技术积累和产业链完善，国产光刻机早晚能从 “跟跑” 变成 “并跑”，甚至 “领跑”！ 以上内容仅为科普，不构成投资建议～～ #ai 创造营 ##ai 产业链观察#